半導體生産過程中的溫度控制

半導體生産過程中的溫度控制

高(gāo)速穩定的通過率

作(zuò)爲荷蘭ASM公司的子公司，Levitech爲半導體工(gōng)業生産産品。産品實現(xiàn)半導體市場對(duì)小(xiǎo)結構和(hé)一緻性産品的要求，機器制造商必須實施新的傳熱方法，這(zhè)需要更快(kuài)的溫度修正和(hé)更好(hǎo)的控制。那就是爲什(shén)麽Levitech公司要尋找一種替代方法在其産品上(shàng)控制熱處理(lǐ)過程。來(lái)自(zì)荷蘭的Levitech公司找到(dào)了(le)久茂與之合作(zuò)。

制造過程

用(yòng)于晶圓制造的反應器由兩個石墨圓盤組成，它們被加熱到(dào)适當的工(gōng)藝溫度，爲了(le)産生更好(hǎo)的結果，晶盤需要顯示特定的特征。在這(zhè)個過程中，用(yòng)氣體使晶圓在兩個圓盤之間懸停而互不接觸，必要溫度使用(yòng)Kanthal®加熱元件才能(néng)達到(dào)1200攝氏度。

更高(gāo)的效率

應用(yòng)創新的傳熱方法有助于晶圓的快(kuài)速加熱和(hé)快(kuài)速冷卻。晶圓的兩邊都有一個均勻0.15毫米的開(kāi)口确保非常有效的導熱性。晶圓在幾秒鐘(zhōng)内被加熱到(dào)石墨片的溫度，它們由一個特殊的加熱控制系統控制，這(zhè)就是久茂的晶閘管功率控制器做到(dào)的。

JUMO TYA 201在每個溫度階段控制Kanthal®加熱元件所需的電流和(hé)電壓從(cóng)而确保準确的溫度變化。該系統使晶圓每次都在相同的溫度下(xià)生産。

快(kuài)速和(hé)準确控制對(duì)半導體産品是極其必須的

這(zhè)就是爲什(shén)麽Levitech公司可以滿足市場需求和(hé)在相同時(shí)間内可以增加出貨量的原因。